저나트륨 콜로이드 실리카/실리카졸 중요한 산업 원료이다. 안정성과 활용성이 좋아 코팅, 세라믹, 식품, 의약 등 다양한 분야에서 널리 사용되고 있습니다. 다음은 원료 선택, 제조 공정 및 주요 매개 변수 제어를 포함하여 저나트륨 콜로이드 실리카의 제조 방법을 자세히 소개합니다.

1. 원료 선정
저나트륨형 콜로이달 실리카를 제조하기 위한 원료는 주로 다음과 같다.
실리콘 소스: 일반적으로 사용되는 실리콘 소스는 규산나트륨, 규산암모늄 및 실리카 분말입니다. 실리콘 공급원을 선택할 때는 순도와 나트륨 이온 함량을 우선적으로 고려해야 합니다.
물: 순수한 물은 준비 과정에서 주요 용매이므로 수질이 실험 요구 사항을 충족하는지 확인하는 것이 필요합니다.
산 또는 알칼리: pH 값을 조정하기 위한 산 및 알칼리제로는 일반적으로 염산, 암모니아수 또는 아세트산이 사용됩니다.

2. 준비과정
저나트륨 콜로이드 실리카의 제조 공정은 주로 다음 단계를 포함합니다.
가수분해 반응: 선택된 실리콘 소스를 순수한 물에 용해시켜 투명한 용액을 형성합니다. 예를 들어 규산나트륨을 물에 녹인 후 묽은 염산을 한 방울씩 첨가하여 pH 값을 조정할 수 있습니다. 반응이 원활하게 진행되도록 pH 값을 6~9 범위로 조절합니다.
겔화 과정: pH 값이 조정됨에 따라 용액의 규산염 이온이 중합되어 작은 입자를 형성하기 시작합니다. 이 과정을 겔화라고 합니다. 이 단계에서는 용액의 균일성을 유지하고 입자가 침전되는 것을 방지하기 위해 계속 교반해야 합니다.
온도 제어: 겔화 과정에서 반응 온도는 입자의 형성과 안정성에 중요한 영향을 미칩니다. 일반적으로 반응온도는 상온에서 섭씨 80도 사이로 조절되어 입자의 성장을 촉진하고 균일성을 향상시킨다. 높은 온도는 반응을 촉진하는 데 도움이 되지만 과도한 온도는 입자 뭉침을 유발하므로 피해야 합니다.
안정화 처리: 콜로이드의 안정성을 향상시키기 위해서는 반응 후 용액을 처리해야 합니다. 입자의 응집 및 침전을 방지하기 위해 안정제(예: 계면활성제)를 첨가할 수 있습니다. 최종 제품의 안정성을 보장하려면 특정 적용 요구 사항에 따라 안정제 선택을 조정해야 합니다.
여과 및 세척: 반응이 완료된 후 용액에는 미반응 실리콘 소스 및 기타 불순물이 포함될 수 있습니다. 이때 이러한 불순물은 여과나 원심분리를 통해 제거해야 합니다. 여과된 콜로이드는 최종 제품의 순도를 보장하기 위해 잔류 나트륨 이온 및 기타 불순물을 제거하기 위해 순수한 물로 여러 번 세척해야 합니다.

3. pH 및 농도 조정
준비 과정에서 pH는 핵심 매개변수입니다. pH가 너무 높거나 너무 낮으면 콜로이드의 형성과 안정성에 영향을 미칩니다. 따라서 pH 값을 정기적으로 테스트하고 조정해야 합니다. 또한 최종 제품의 농도도 응용 요구 사항에 따라 조정해야 하며 일반적으로 10%~30% 사이로 제어됩니다.

4. 보관 및 사용
준비 후 저나트륨 콜로이드 실리카는 직사광선과 고온을 피하고 서늘하고 건조한 환경에 보관해야 합니다. 사용 시 콜로이드의 균일성을 보장하기 위해 완전히 교반해야 하며 응용 프로그램 사용에 대한 관련 지침을 따르십시오.